中科院研究團(tuán)隊(duì):DLP技術(shù)打印AlN陶瓷
氮化鋁(AlN)具有很高的理論熱導(dǎo)率(319 W /(m·K)),具有良好的電絕緣性,低的熱膨脹系數(shù)和較高的機(jī)械強(qiáng)度,是一種在散熱器和微電子應(yīng)用的有廣泛前途的陶瓷材料。DLP技術(shù)可以制造具有微小結(jié)構(gòu)的小型組件,中科院研究團(tuán)隊(duì)基于此種技術(shù)打印AlN陶瓷并對(duì)其導(dǎo)熱性和力學(xué)性能進(jìn)行了探究。